Learn Concept
마스크 기초
- • 마스크/레티클의 역할을 이해한다.
- • 선수개념 1개
- • 후속개념 1개
#mask#reticle
업데이트: 2026-02-22
학습 트레일
리소그래피 스택
마스크 기초 → 리소그래피 기초 → EUV 기초 → High-NA EUV → 결함 관리
선수개념
후속개념
정의 3줄
마스크(레티클)는 리소그래피에서 패턴을 전사하는 설계 원본입니다. 마스크 결함은 그대로 웨이퍼에 전달되므로 품질 관리가 매우 중요합니다. OPC 같은 보정 기법은 미세화 공정에서 필수 요소입니다. 마스크는 단순 필름이 아니라 공정 정확도를 결정하는 핵심 자산입니다.
학습 자료
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