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High-NA EUV

  • 차세대 EUV로 더 미세한 패턴을 구현한다.
  • 장비/마스크 생태계 업데이트가 필요하다.
  • CapEx와 리드타임 관리가 중요한 이슈다.
#euv#high-na#lithography#equipment#materials#foundry
업데이트: 2026-02-22

콘텐츠 품질

출처 2개

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확인됨

출처 요약

ibm.comen.wikipedia.org

Value Chain

Equipment

차세대 장비 도입 일정이 생산능력을 좌우한다.

Materials

펠리클/레지스트 혁신이 필요하다.

Foundry

미세화 로드맵과 연동된다.

왜 중요한가 (비즈니스 관점)

영향 경로 요약

  • 수요 변화가 매출과 생산 믹스에 영향을 준다.
  • 수율/리드타임/CapEx 변화가 비용 구조에 영향을 준다.
  • 공급망 병목이 발생하면 납기와 출하가 지연될 수 있다.

타임라인

High-NA EUV 개발 로드맵 공개2026-02-12

차세대 장비 개발 일정이 공유되었다.

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