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High-NA EUV
- • 차세대 EUV로 더 미세한 패턴을 구현한다.
- • 장비/마스크 생태계 업데이트가 필요하다.
- • CapEx와 리드타임 관리가 중요한 이슈다.
#euv#high-na#lithography#equipment#materials#foundry
업데이트: 2026-02-22
콘텐츠 품질
출처 2개
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출처 요약
ibm.comen.wikipedia.org
Value Chain
Equipment
차세대 장비 도입 일정이 생산능력을 좌우한다.
Materials
펠리클/레지스트 혁신이 필요하다.
Foundry
미세화 로드맵과 연동된다.
왜 중요한가 (비즈니스 관점)
영향 경로 요약
- 수요 변화가 매출과 생산 믹스에 영향을 준다.
- 수율/리드타임/CapEx 변화가 비용 구조에 영향을 준다.
- 공급망 병목이 발생하면 납기와 출하가 지연될 수 있다.
타임라인
관련 공정 단계
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